3M™ Trizact™ CMP Pad

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CMP 공정에서의 균일성을 제공합니다

패드 간 일관된 질감

패드 수명 동안 안정성

상세정보

주요 특징

CMP 공정에서의 균일성을 제공합니다
패드 간 일관된 질감
패드 수명 동안 안정성
Advanced CMP를 가능하게 하는 향상된 평탄화 효율
디싱 및 침식 감소
결함이 적은 패드 잔해
금속 오염의 위험을 줄입니다

3M™ Trizact™ CMP Pad는 미세복제 기술을 사용하여 낮은 결점률과 일관된 패드 성능을 제공합니다. 이러한 미세복제 방식으로 패드 수명을 연장하고 다이아몬드 패드 컨디셔너가 필요 없게 하여 전체 비용을 낮추고 downtime을 줄일 수 있습니다.

혁신적인 CMP 소재인 3M™ Trizact™ CMP Pad는 Advanced Node 반도체 제조를 위한 것입니다. 정밀하게 설계된 3차원 미세 복제 돌기와 기공은 돌기의 직경, 높이 및 기공 깊이가 균일하도록 도와줍니다. 제어된 미세 복제 특성은 반도체 제조의 요구를 충족하기 위해 패드 간 일관된 성능을 보장합니다. 아울러 효율적이고 균일한 슬러리 흐름 분포를 제공합니다.

Recommended Applications: Advanced Node (Memory and Logic), CMP, Semiconductor Fabrication, and Wafer Manufacturing

제품설명

상세정보

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