전자 재료 및 반도체 분야에서의 3M™ Liqui-Cel™ 접촉막 모듈

반도체 처리, 평면 디스플레이 제조 및 기타 첨단 기술 산업이 더 작은 선폭, 더 큰 웨이퍼 크기와 같은 첨단 디스플레이 기술을 요구함에 따라 용존 가스 제어는 초순수 품질에서 중요한 고려 사항이 되었습니다.

효율성, 심플함 및 탁월한 가스 제거 성능으로 인해 3M™ Liqui-Cel™ 접촉막 모듈은 반도체 및 평면 디스플레이 공정 수처리 시스템에서 가스 제거 기술로 활용되고 있습니다. 이 접촉막 모듈은 낮은 용출물 특성으로 수질에 부정적인 영향을 미치지 않습니다. 적절한 시스템 설계를 통해 이러한 멤브레인 탈기기는 용수에서 O₂를 1ppb 미만으로, 용존 CO₂를 0.5ppm까지 제거합니다. 낮은 용존 산소 농도는 제품 수율을 유지하며, 낮은 CO₂ 농도는 EDI(Electrodeionization) 및 기타 이온 교환 공정의 효율성을 극대화하는 데 도움이 될 수 있습니다.

기존의 진공 타워와 달리 이러한 멤브레인 탈기기 시스템은 확장이 가능합니다. 용수 요구량이 늘어나거나 용존 가스 사양이 낮아지게 되면 이 요구 사항을 충족하기 위해 시스템에 접촉막 모듈을 추가할 수 있습니다.

Liqui-Cel 접촉막 모듈은 또한 초순수 및 기타 내화학성등 호환 가능한 습식 벤치 공정 유체 내 용존 가스의 저 농도 정밀 제어를 가능하게 합니다.