실리콘 웨이퍼 제조 적용 분야
백년이 넘는 시간동안 3M은 끊임없이 진화하는 반도체 제조 공정의 요구 사항을 충족하기 위해 고객과 협력하여 혁신적인 필터제품을 개발해 왔습니다.
초순수(UPW)는 불량 원인이 되는 이물질을 제거하고, 다양한 공정 중에 케미칼에 노출된 웨이퍼를 세척하기 위해 주로 사용됩니다.
3M의 필터 및 가스제어 멤브레인 제품은 반도체 및 전자 산업의 엄격한 요구 사항을 충족하기 위해 파티클을 줄이거나 용존 가스(O₂ 및 CO₂) 를 제어하는 기능을 제공합니다.
랩핑과 연마는 미세 연마제의 화학적(산성 또는 염기성) 슬러리에 연마에 의한 기계적 힘을 결합하여 반도체 배선을 평탄화하는 공정입니다. 슬러리 파티클 사이즈 관리는 적절한 표면 마감을 가능케 합니다.
3M은 웨이퍼 제조사가 최종 고객사에 공급할 수 있도록 연마 공정에 사용되는 슬러리 내의 파티클 사이즈를 관리하는 필터 솔루션을 제공합니다.
습식 세정 중에 웨이퍼를 화학 용액에 담그거나 분사 합니다. 전자 기기의 사양이 미세패턴 공정 등으로 점점 작아짐에 따라, 제조 공정에 사용되는 산, 염기 및 용매의 순도를 보장하는 것은 여전히 매우 중요합니다.
대부분의 산과 염기에서 알코올과 에칭제에 이르기까지 3M은 귀사의 케미칼 사용에 적합한 필터를 제공합니다.
공정 냉각수는 수냉식 장비로 순환됩니다. 온도 순환, 혼입된 공기, 오염 물질 및 열악한 수질은 부식과 스케일링 및 다른 문제를 야기하여 적절한 냉각을 방해하거나 수냉식 장비의 서비스를 저하시키는 기타 문제들을 초래할 수 있습니다. 적절한 수처리는 수냉식 장비가 사용 중에 최적으로 작동하게 해 줍니다.
3M은 공정 냉각수 루프의 이물질 및 혼입 가스를 관리하여 보다 효율적이고 안정적인 작동을 가능하게 하는 필터 및 가스 제어 솔루션을 제공합니다.
반도체 제조를 위해서는 많은 양의 화학 물질과 물이 필요하며,이로 인해 상당 양의 폐수가 발생합니다. 다양한 제조 공정에서 다양한 폐수 오염 물질을 생성됩니다.
3M은 환경을 보호하고 점점 더 엄격해지는 폐수 배출 기준을 충족시키기 위해 개발된 필터 솔루션을 제공합니다.
3M™ Liqui-Cel™ 접촉막 모듈은 컴팩트한 디자인으로 효율적인 용존 가스 제어 기능을 제공합니다. 수중에 가스를 추가하거나 용존 가스 및 기포를 제거할 수 있는 이 가스 전달 장치는 중공사 막 기술을 활용하여 전 세계 공정 설비 시설의 운영 효율성, 성능을 개선하고 제품 품질을 유지하는데 도움을 주고 있습니다.
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3M 고객상담실: 080-033-4114
