3M™ CMP Pad 컨디셔너

A CMP conditioner being shown

Redefining Semiconductor CMP Pad Conditioners

반도체 제조의 어려운 과제를 해결하기 위해 개발된 다이아몬드, 소프트 브러시 및 미세 복제된 CMP Pad 컨디셔너.

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일관성 있고 신뢰할 수 있는 CMP Pad 컨디셔닝

반도체 제조 공정 전체에서 일관성과 신뢰성, 수율은 가장 중요합니다. 20년 이상 3M™ CMP Pad 컨디셔너는 세계 최고의 반도체 제조업체에 혁신적인 패드 컨디셔닝 솔루션을 제공해왔습니다.
3M™ Diamond Pad 컨디셔너에서 사용된 독점적인 소결 연마 다이아몬드 기술부터 3M™ Trizact™ Pad 컨디셔너의 최신 정밀 미세 복사 패턴까지 3M의 기술 팀은 지속적으로 최첨단 패드 컨디셔너 기술을 재정의하기 위해 헌신합니다. 전 세계 연구 제조 시설에서 편리한 제품 지원 및 제품 공급을 담당합니다.


모든 반도체 제조에 필요한 3가지 3M™ CMP Pad 컨디셔너 제품군

  • 3M™ Trizact™ CMP Pad Conditioner
    Watch: Overview of 3M™ Trizact™ CMP Pad Conditioners

    3M™ Trizact™ Pad 컨디셔너는 정밀함과 신뢰성, 일관성이 핵심인 첨단 노드 공정을 위해 개발되었습니다. 3M의 특허받은 미세 복사 공정을 사용해 팁 형태부터 높이 분산까지 거의 모든 형태를 마이크로 규모로 특정해 다이아몬드 코팅 세라믹으로 제조할 수 있습니다.

    • 금속 없는 표면: 금속 오염에 민감한 첨단 노드 공정에 이상적입니다.
    • 수율 개선: 다이아몬드 코팅 세라믹이 일부 다이아몬드 분말 컨디셔너로 인한 불량까지 제거합니다.
    • 상당히 개선된 수명: 디스크당 일관성 있고 예상 가능한 패드 마감과 패드 마모로 성능을 예상할 수 있습니다.

  • 3M™ Diamond Pad Conditioner
    Watch: Overview of 3M™ Diamond Pad Conditioners

    3M™ Diamond Pad 컨디셔너는 CMP Pad 표면을 새롭게 바꾸고, 마모를 최소화하며 웨이퍼가 바뀌어도 돌기와 패드 성능의 일관성을 유지합니다. 단일층 다이아몬드 그리드와 엄격하게 제어된 간격이 더욱 예측 가능하고 최적화된 CMP Pad 사용은 물론 평탄화 효율도 개선합니다.
     

    • Controlled Performance: 다이아몬드 간격 및 돌출로 뛰어난 패드 평탄화를 제공합니다.
    • Increased Life: 다이아몬드가 3M의 특허받은 소결 연마 기술로 단단히 고정되어 엣지 제외 존을 보호합니다.
    • Customizable: 선호하는 컨디셔닝 연마도를 조절할 수 있습니다.

  • 3M™ CMP Pad Conditioner Brush
    Watch: Overview of 3M™ CMP Pad Conditioner Brushes

    금속 없는 구조와 낮은 소유 비용의 3M™ CMP Pad 컨디셔너 브러시는 CMP 버프 및 패드 세척 응용분야에 사용됩니다.
     

    • Durable and Metal-free: 3M의 특허받은 브러시 제조 기술을 사용한 브리슬이 독립적으로 고정되어 브러시 표면에 균일하게 분포되어 있습니다.
    • 부드러운 CMP Pad에 적합: 강력한 브리슬이 패드 잔유물을 기공 및 펠트 기반 패드에서 제거합니다.
    • 낮은 총 소유 비용: 효율적인 패드 세척 및 CMP 슬러리 분포.

CMP Pad에 맞는 CMP Pad 컨디셔너를 찾아보십시오

이미 사용 중인 CMP Pad가 있습니까? 단단한 패드부터 부드러운 패드, 첨단 노드 공정용 등 3M은 다양한 패드 컨디셔너를 제공합니다. CMP 공정에 맞는 성능, 가격, 주요 패드 컨디셔너 특징의 완벽한 균형을 찾아보십시오. 전체 제품군 가이드 다운로드(PDF, 344.13KB)..


scientist dressed in full lab gear.

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3M의 혁신적인 CMP 제품으로 CMP 공정을 개선하는 방법에 대해 자세히 알아보십시오.

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